呢？就拿当今世界上最流行的芯片工艺来说，7nm工艺大概要求大概是人类头发丝的万分之一，可以想象这其中的技术有多难了。
我国实际上也进行过光刻机的研发，并且这件事要追溯到半个世纪以前的60年代。当时，我国的专家们就已经研发出了65型接触式光刻机，而当时荷兰ASML公司还要过5年才成立，说来也是讽刺，既然我国当时领先了荷兰ASML五年，后来却一落千尺，远远落后世界水平。
原来在80年代，我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”，不知道是科研资金不够还是“飘了”，我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究，并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端，于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来，就连前面20年的研究成果，也都付诸东流了。
也许是中国半导体行业的不景气，就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行，并卖起了零食，后来，直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机，国人才终于顿悟，原来直至今日，我国光刻机还是依靠进口。
通过田中信一的询问，目前东芝电子厂已经可以生产4~5英寸圆晶，0.9微米级别的芯片。
听到田中的介绍，段云内心有些暗暗吃惊。
其实早在来日本之前，段云对国内目前的芯片产业技术情况已经有了比较全面的了解。
1986年，电子工业部在厦门召开集成电路发展战略研讨会，提出“七五”（1986—1990年）期间我国集成电路技术的“531”发展战略，即普及推广以742厂为基点的5微米技术，同时开发3微米技术，攻关1微米技术。
但实际上，一直到1993年的时候，国内才开发出5英寸，三微米技术，而这比起日本，已经整整相差了15年以上。
“这套设备我要了。”段云走到一台光刻机前，对田中信一说道。
“段云先生……”田中闻言先是愣了一下，随即笑着对段云说道：“这是目前我们公司最先进的光刻机，全日本也只有6台，这个是不可能卖给你们的……另外你们生产的这种闪存芯片也用不着精密度这么高的光刻机。”
“那贵公司打算卖给我们哪一台光刻机？”段云问道。
段云其实早就知道东芝公司不可能把最先进的东西卖给自己，而且就算他卖，日本政府也不会同意。
一直以来日本政府对于芯片产业扶持力度都非常大，不光税收方面有优惠
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